真空蒸着とは

真空蒸着とは、高真空中で蒸着材料を加熱蒸発させて基板に薄膜を形成(成膜)する加工技術です。

蒸着材料は、真空中で電子ビームやレーザ光などにより強いエネルギーを加えられると蒸発し、近くにあるガラスやプラスチックなどの基板に付着して薄い膜を形成します。これが、薄膜形成の代表的方法の一つである真空蒸着です。
では、なぜ真空が必要なのでしょうか？
大気圧の様に蒸着材料以外の気体分子が沢山ある状態では、気体分子に邪魔をされ、蒸発した蒸着材料は、基板に安定して到達することが出来ません。
大気圧の１００万～１億分の１という真空状態で蒸着材料を蒸発させることで、安定して基板に薄膜を形成させることができます。